400K 远程等离子体源（RPS），采用抗腐蚀的阳极氧化或微弧氧化涂层，能够有效的解离含氟气体，RPS所产生的活性自由基通过气流传输至工艺腔体，适用于多种设备腔体清洗、刻蚀以及表面处理，同样的对于氧氮等其他典型气体也有较好的解离效果。